杭州高谱成像技术申请用于高光谱相机二级光谱滤除专利，减少二级光谱对一级光谱的干扰

金融界2025年4月22日消息，国家知识产权局信息显示，杭州高谱成像技术有限公司申请一项名为“一种用于高光谱相机二级光谱滤除方法及系统”的专利，公开号CN119854657A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于高光谱相机二级光谱滤除方法及系统，包括基于高光谱相机可测量的理论波长范围和实际波长范围，确定一级光谱与二级光谱的理论重叠波长，得到重叠区域内二级光谱实际波长范围；调整积分时间，在重叠区域内二级光谱实际波长范围内，分析每个波段的一级光谱强度与二级光谱强度之间的对应关系得到关系参数，得到特征参数矩阵；根据重叠区域内二级光谱实际波长范围以及特征参数矩阵插值生成重叠波长范围的二级光谱数据；从原始光谱中滤除二级光谱数据，获得最终高光谱数据，实现滤除高光谱相机中的二级光谱，解决光栅分光时产生的邻级光谱重叠问题，减少二级光谱对一级光谱的干扰，提高光谱分析的准确性。

天眼查资料显示，杭州高谱成像技术有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州高谱成像技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息17条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自：金融界

作者：情报员