京东方申请一种背光模组、其制作方法及显示设备专利，提高背光模组背光的均一性

金融界2025年4月22日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种背光模组、其制作方法及显示设备”的专利，公开号CN119846872A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种背光模组、其制作方法及显示设备，包括：衬底基板，衬底基板包括相对的第一表面和第二表面；发光器件，位于第一表面背离第二表面的一侧；第一凹槽，位于衬底基板的第一表面；第一凹槽的底部具有第一平面，第一平面平行于第二表面；散射结构，位于第一平面背离第二表面的一侧，且位于第一凹槽的底部。如此，通过在第一平面上设置散射结构，使得在衬底基板的第二表面发生全反射的光线传播至第一平面时，在散射结构的作用下从不同的角度出射，当光线再次射向衬底基板的第二表面时，能够减少发生全反射的光线，从而能够消除因全反射产生的暗环，提高背光模组背光的均一性。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3765252.9195万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目234次，财产线索方面有商标信息775条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可45个。

本文源自：金融界

作者：情报员