开悦半导体申请光刻胶自循环系统及方法专利，大幅降低生产成本

金融界2025年4月23日消息，国家知识产权局信息显示，合肥开悦半导体科技有限公司申请一项名为“一种光刻胶自循环系统及方法”的专利，公开号CN119805867A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种光刻胶自循环系统及方法，涉及光刻设备领域，该系统包括光刻胶储存瓶、补液罐、迷你罐、过滤器和单级泵；所述补液罐的出路上设置阀门一，喷胶处设置阀门二，所述阀门一和所述阀门二在光刻胶自循环时关闭，光刻胶在单级泵、过滤器、迷你罐之间循环，且循环路径上设置若干个阀门。本方案的光刻胶自循环系统，通过使光刻胶在系统内进行循环，每天排出的光刻胶大幅减小，一台机器每年减少的成本在五百万左右，大幅降低生产成本。

天眼查资料显示，合肥开悦半导体科技有限公司，成立于2016年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3476.5728万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥开悦半导体科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目25次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息74条，此外企业还拥有行政许可9个。

本文源自：金融界

作者：情报员